2014-07-18 IBM、半導体開発に今後5年で30億ドルを投資 Google|mynavi7nmプロセス以降の半導体デバイスを実現する際の物理的課題の解決を目指すもので「7 nanometer and beyond」 カーボン・ナノエレクトロニクスや 「III-V族半導体」 トンネル電界効果トランジスタ(TFET) シリコン・フォトニクス、 次世代メモリ技術、 量子コンピューティングならびに コグニティブ・コンピューティングを支えるアーキテクチャ シリコン半導体によるCMOSプロセスの限界ポストシリコン時代におけるシリコン代替技術